什么是接触式？接近式？投影式？步进式光刻机？

UV光刻机一般可以分为5种，即：接触式光刻机，接近式光刻机，扫描投影式光刻机，步进投影式光刻机，步进扫描投影式光刻机。我们目前芯片厂使用较多的stepper与scanner则包含在这5种之中。今天就来仔细剖析一下，这五种光刻机的区别及应用场景。

接触式光刻机

接触式光刻机是15534405上世纪70年代最主要的95623252光刻机台，不过77831657在目前的24120930研究机构中用的也57748369比较多。接触式光刻机又21363331可以分为硬接触，软接触，真空接触。

硬接触

掩膜版与58721758晶圆上的6098104光刻胶直接地67386870接触，紧贴晶圆，没有56968559任何间隙。但是23277919掩膜版与91807146晶圆之间接触，晶圆的光刻胶会污染掩膜版.

软接触

将掩膜版轻轻地17179707放置在晶圆上，使得掩膜版和12557543晶圆之间实际上是有33005126接触的，但接触的压力比"硬接触"要小得多。【趣探网】格言积累卡片制作这种方式的目的是在确保高分辨率的同时，减少掩膜版和基材之间的90921238损坏风险。抖音我要多坦然我要多勇敢是什么歌-所有的不甘歌曲介绍[图文]

真空接触

先将掩膜版与晶圆之间抽至真空，由于气压的作用，掩膜版会被压向硅片，从而确保两者之间的均匀接触。

接近式光刻机

掩膜版与晶圆并不真正接触，而是处于非常小的距离（大约几微米），这种方式中掩膜版与34760538晶圆之间有一个小间隙，大于软接触但小于投影式光刻的间隙。虽然38729700这个间隙相对较小，但48495701它能够使使掩模和66726278硅片不会直接接触，从而降低了81317556损坏的风险。日语

扫描投影式曝光机

注意，这里说的不是41471640Scanner。该种光刻机中掩膜版与图案的2417203大小是1：1，即掩膜版上的72749743尺寸与88286721光刻胶上的76105556图案尺寸相同。那为什么叫扫描？这是6412166因为光是透过33719421一条细长的91866187狭缝射在晶圆上，一般是96743017一次曝光晶圆的数行，晶圆需要挪动位置，使光能将晶圆所63633089794746有的11264606区域都曝光。

步进投影式光刻机（stepper）

它使用透镜系统将掩模上的图案在小面积上逐个投影到硅片上。每次曝光一个小区域后，硅片会移动到下一个位置，直到整个硅片都被曝光。一个曝光区域就是74043944一个“shot”。十大补脑的食物排名（坚果类助于提高记忆力）因为它是95941632通过22996252透镜系统投影，一般I线stepper使用的58433290是5倍版，即掩膜版上图形尺寸是83808931实际光刻胶上的尺寸的5倍，所3502064以在61575172掩膜板上可以设计更复杂的图形。

步进扫描投影式光刻机（scanner）

在高端的半导体制造中一般会用到此种机型。美军Scanner的57207851特点是43989510在93459408曝光过15419895程中，掩膜版在一个方向上移动，同时晶圆在84046578与44270814其垂直的方向上同步移动。Scanner通常比其他曝光机具有更高的77791539生产效率，设计和制造都非常复杂，Scanner的38124204购买和30897055维护成本都很高。

UV光刻机的类型大致就这几种，今天只讲个梗概，后续我再分开一一详细描述。